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產品簡介：本產品廣泛用于各種溫涂膜研究，例如陶瓷類薄膜、晶體類薄膜、電池材料薄膜、殊納米薄膜；能夠適應未來溫條件下成膜的的發(fā)展
主要點：*數字顯示溫度控制的烘干系統(tǒng)，zui作溫度200℃；
*涂膜速度在0～100mm/秒范圍內可調；
*真空鋁盤，可快速放置或取下基片；
*在10～250mm之間可通過行程開關調整行程；
*帶調整涂膜厚度（度0.01mm）的刮刀；
*涂膜速度：0～100mm/秒；
*zui大行程：250mm；
*真空板：帶真空鋁平板 ；
*真空板尺寸：L365mm×W200mm×H30mm；
*刮刀可調范圍：0.01～3.5mm；
*加熱烘干系統(tǒng)：室溫～200℃,數顯溫度控制器,度±1℃
*電源：220V/50Hz；
（1）.將片放在真空板上，啟動電源，開啟真空，片吸附在真空板上；
（4）.取出涂膜器和推桿，蓋上發(fā)熱蓋，設定加熱溫度和時間，行加熱烘干；
北京恒奧德儀器儀表有限公司
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